“OPC是EDA（电子规划自动化）工业软件的一种，没有这种软件，即便有光刻机，也造不出芯片。从基础研讨到产业化使用，咱们团队整整走了十年。十年磨一剑，便是要处理芯片从规划到制作的卡脖子问题。”
在光谷，华中科技大学教授刘世元创建的宇微光学软件有限公司（以下简称“宇微光学”），已成功研制全国产、自主可控的核算光刻OPC软件，填补国内空白。现在正在做集成与测验，并到芯片制作商做验证。
刘世元介绍，光刻是芯片制作中最为要害的一种工艺，经过光刻成像体系，将规划好的图形转移到硅片上。跟着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会发生畸变。在90nm乃至180nm以下芯片的光刻制作前，都一定要选用一类名为OPC（光学接近校对）的算法软件来优化。没有OPC，一切IC制作厂商将失掉将芯片规划转化为芯片产品的才能。
刘世元是华中科技大学集成电路丈量配备研讨中心主任，一起也是光谷实验室集成电路丈量检测技能创新中心主任。他早年师从华中理工大学前校长、闻名机械学家杨叔子院士，于1998年获工学博士学位。
2002年，从英国访学归国后不久，刘世元在学院差遣下，作为最早的几个技能骨干之一，加盟上海微电子配备有限公司(SMEE)，承当国家863严重专项——“100nm光刻机”研制使命，为整体组成员、操控学科负责人。经过3年多的斗争，他组建了SMEE第一个操控工程实验室，处理了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步操控的技能难题。
2005年，从上海回到校园之后，刘世元在探索中逐渐找准了自己的学术定位：面向IC制作需求，安身先进光刻与纳米丈量基础理论及学术前沿展开研讨。2010年头，他清晰选定了两个主攻研讨方向：面向IC纳米制作的核算光刻与核算丈量。十多年来，他和团队在该范畴的基础理论与技能创新上做了许多工作，相继取得国内外学术界和产业界同行的注重和认可。
“2013年，我第一次赴日本京都参与第6届世界光谱椭偏学大会，其时还只能当听众；到了2016年，在德国柏林举行的第7届世界光谱椭偏学大会上，我应邀做了大会主题陈述，成为该学术会议兴办23年来第一位做大会主题陈述的华人学者。”刘世元回想。
2020年10月，刘世元建立宇微光学公司。现在，团队除了2名行政人员外，悉数为研制人员，他们来自我国、美国、俄罗斯等不同国家，在相关范畴均为顶尖技能专家，30%以上成员具有博士学位，有着非常丰富的职业经历。
“创业与科研不同，要面向商场，在短期内构成产品，并取得客户和投资人的认可，面对很多危险和不确定性。”刘世元表明，之所以走出舒适区，走上创业路，是期望自己的研讨成果可以终究转化成产品，为国家和社会继续健康发展作贡献。
不久前，宇微光学宣告完结Pre-A轮数千万元融资。本轮融资完结后，宇微光学将逐渐加强各中心模块的集成化与软件产品化，一起对各项软件参数进行标定、测验与验证。
下一步，宇微光学将加速产品推行脚步，加速进入国内外芯片制作厂商商场，力求成为全世界芯片产业链中重要的一环。
